Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования

ГОСТ 25196-82
(СТ СЭВ 2760-80)

Группа Э71

     
ГОСУДАРСТВЕННЫЙ СТАНДАРТ СОЮЗА ССР

     
     
ОБОРУДОВАНИЕ ВАКУУМНОЕ. УСТАНОВКИ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ

     
Общие технические требования

     
Vacuum equipement. Apparatus for ion implantation. General technical requirement



ОКП 62 7335

Дата введения 1983-07-01

Постановлением Государственного комитета СССР по стандартам от 31 марта 1982 г. N 1383 срок действия установлен с 01.07.1983 г. до 01.07.1988 г.*
_______________
* Ограничение срока действия снято по протоколу Межгосударственного Совета по стандартизации, метрологии и сертификации (ИУС N 2, 1993 год). - Примечание изготовителя базы данных.

1. Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации (далее - установки), предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,660 57·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 217,534 67·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования до 1,6·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники.

Стандарт полностью соответствует СТ СЭВ 2760-80.

2. Технические требования к установкам - по ГОСТ 24686-81.

3. Установки должны обеспечивать один из режимов обработки изделий:

поштучный;

групповой;

комбинированный.

4. Число пластин, обрабатываемых за один цикл на установке, должно быть кратным 25.

5. Предельное остаточное давление в установке должно быть не более 1,3·10ГОСТ 25196-82 (СТ СЭВ 2760-80) Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования Па.

6. Минимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,01; 0,1; 1; 10; 100; 500; 1000 мкА.

7. Максимальный ионный ток следует выбирать из ряда: 0,03; 0,1; 0,5; 1; 2; 5; 10 мА.

8. Неравномерность дозы имплантации следует выбирать из ряда: 0,5; 1; 2; 4%.

9. Показатели надежности установок следует определять наработкой на отказ, средним временем восстановления и средним ресурсом в соответствии с ГОСТ 24786-81.

Наработку на отказ следует выбирать из ряда: 100, 125, 160, 200, 250, 400, 500, 630, 800, 1000 ч.

Среднее время восстановления должно быть не более 4 ч.

Средний ресурс следует выбирать из ряда: 5000, 5600, 6300, 7100, 8000, 9000, 10000 ч.